什么是气相沉积CVD法二硫化钨薄膜？
化学气相沉积法，Chemical Vapor Deposition，简称CVD
气相沉积CVD法二硫化钨薄膜产品简介：
1） 单层离散分布的三角状单晶晶粒，三角边长一般是几十至一百微米。
2） 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3） 多层WS2 连续薄膜。
4） 基底：WS2可选基底较多，其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如：SiO2/Si硅片，PET，PI，ITO，FTO，玻璃，金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。
气相沉积CVD法二硫化钨薄膜应用领域有光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。
（石墨烯二硫化钨薄膜柔性超级电容器）
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