扩散式钡钨阴极的工作原理是什么?
扩散式钡钨阴极的工作原理主要基于热电子发射和钡的活性作用。以下是其详细的工作原理:
热电子发射
扩散式钡钨阴极首先通过加热至一定温度(如1400K左右),使钨基体达到足够的热电子发射水平。当钨基体受热时,其内部的电子会获得足够的能量,从而克服表面的束缚,逸出成为自由电子。
钡的活性作用
在阴极工作过程中,内部充入的活性物质(主要是钡盐,如BaO)会与钨基体发生反应。这些反应会生成活性钡原子,这些钡原子逐渐扩散到阴极表面。
表面钡层
在阴极表面,扩散出来的钡原子会形成一层薄膜,通常是钨-钡(W-Ba)或钨-氧-钡(W-O-Ba)的薄膜扩散系统。这层薄膜降低了阴极表面的逸出功,从而进一步增加了热电子的发射数量。
电子发射
由于表面逸出功的降低,阴极在受热时能够发射出更多的电子。这些电子可以被外部电场加速并用于各种真空电子器件中。
总的来说,扩散式钡钨阴极通过加热和钡的活性作用,降低了阴极表面的逸出功,从而实现了高效、稳定的热电子发射。这种阴极在微波真空电子器件、大功率电子束设备和显示器等领域有着广泛的应用。
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