什么是钡-钨阴极？
钡-钨（Ba-W）阴极是一种利用钨基体的多孔特性，将活性物质储备在钨海绵体中的热阴极。
在工作条件下，盐与钨基体发生反应，被还原出的自由钡沿孔隙扩散至阴极表面形成稳定的发射。这种阴极具有高脉冲电流发射密度、长使用寿命、耐离子轰击以及抗中毒能力，因此被广泛应用于现代微波真空电子器件中，如回旋行波管、强流直线感应加速器、速调管等，为这些器件提供源源不断的电子。
钡-钨阴极的性能主要由两方面决定：多孔钨基体以及填充在基体孔隙间的活性物质——盐。制备钨铼基钡钨阴极时，首先制备NH4ReO4（高铼酸铵）水溶液，然后将烧结的多孔钨基底浸入溶液中，使其吸附NH4ReO4，再经过烘烤、烧结转化为W-Re基底，最后浸入铝酸盐并覆膜完成制造。
此外，钡-钨阴极还可以应用于其他领域，如氙气闪光灯领域，制成摄影灯、电子卡口灯、嫩肤除毛美容灯、太阳能检测、泵浦光源灯、脉冲杀菌、工业计数灯、指示灯和信号灯等产品。然而，钡-钨阴极的制备工艺相对复杂，且阴极的寿命有限，需要定期更换或维修。
利用正交试验探讨了放电等离子技术工艺参数（温度、压力、保温时间）对钡-钨（Ba-W）阴极中的W的孔隙度的影响规律，获得了孔隙率在23%～30%内变化时所需要的最佳工艺参数。在此基础上，制备出了具有不同孔隙度的球形W基体和普通不规则的W基体。研究表明：球形多孔W颗粒间堆积、排列有序，无闭孔，孔径分布集中而均匀，在26.3%的孔隙度下中值孔径为1.41 μm；机械性能方面，球形钨粉基体维氏硬度低于传统普通不规则钨多孔体。
在脉宽10 μs、频率1000 Hz的条件下，阴极脉冲发射电流密度随着孔隙度的增大，先增大后减小。当基体孔隙度为26.3%时，阴极电流发射密度最大，在1050 ℃，偏离点发射电流密度可达24.62 A/cm2，零场发射电流密度为7.62 A/cm2，功函数为1.95 eV。
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