钼坩埚完全可以通过粉末冶金方式制造，而且在工业生产中这是一种非常常见且高效的方法，尤其适用于制造高纯度、大尺寸或特殊结构的钼坩埚。与传统熔铸或锻造工艺相比，粉末冶金具有独特的优势，但也存在一定的技术挑战。
一、粉末冶金制造钼坩埚的基本流程：
钼粉制备
采用还原法（如氧化钼氢还原）制得高纯度钼粉。
颗粒尺寸通常控制在1~5 μm，可根据应用需要调整。
成形
采用冷等静压（CIP）或模具压制成形，将钼粉压成近似坩埚形状的毛坯体。
压力一般为150–300 MPa，形成致密性良好的预成型块。
烧结
在真空或氢气保护气氛下进行高温烧结（通常温度在1800–2100 °C）。
烧结时间取决于尺寸和密度要求，一般为2–5小时。
烧结后形成具有一定强度和致密度的钼坯体，密度可达98%以上。
后处理（选用）
机加工：精整内外形状和尺寸，去除烧结缺陷；
退火处理：消除残余应力；
焊接/组装：用于大尺寸或复合结构的坩埚。
二、粉末冶金钼坩埚的优点：
高纯度控制能力强
原料粉末可精确控制杂质元素，适合对纯度要求极高的半导体、晶体生长等领域。
可成形复杂结构
如加厚底部、薄壁筒体、异型坩埚等，灵活性高。
成本较可控
尤其适用于批量生产小中型钼坩埚，材料利用率高，节约原料。
组织结构均匀
烧结体内部晶粒细小，适合需要耐高温和热震性的场景。
三、存在的挑战或局限：
致密度略低于锻造钼（但可通过二次热等静压或热处理提高）；
尺寸越大，烧结变形控制越难，易出现翘曲或收缩不均；
烧结后仍需机加工修整尺寸和表面，特别是精密应用场合；
烧结过程对炉体和气氛控制要求高，否则易引入杂质或导致组织疏松。
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