钼片的抗氧化性在室温下表现良好，但在高温环境下较差，特别是在氧化性气氛中。室温下，钼片表面稳定，不与氧气、水或湿气反应，形成致密保护层，防止进一步氧化。这种特性使其在常温化学工业或电子设备中耐用。然而，在高温（通常超过400°C）氧化环境中，钼片开始与氧气反应，生成挥发性氧化物MoO₃。600°C以上，氧化速率显著加快，MoO₃挥发导致表面粉化、质量损失，严重削弱力学性能和耐用性。例如，在空气中800°C时，钼片表面迅速劣化，限制其高温暴露应用。为改善抗氧化性，需在真空或惰性气体（如氩气、氮气）环境中使用，以避免氧气接触。表面涂层（如硅化物或陶瓷涂层）可提升抗氧化性，延缓氧化进程，但增加成本。高纯度钼（99.95%）因杂质少，氧化起始温度略高，抗氧化性略优于低纯度钼。合金化（如添加钛、锆）也能增强抗氧化性，但可能牺牲其他性能。在高温炉、航空航天部件中，钼片常在保护气氛下使用，以维持其高强度和稳定性。实际应用中，需严格控制环境温度和气氛，优化抗氧化性能，确保钼片在苛刻条件下的可靠性和寿命。
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