钼片在电子信息领域因其高纯度、低热膨胀系数和优异的导电导热性能而广泛应用，主要包括半导体制造、显示器生产、光伏行业及电子器件。1）半导体制造：钼片用作溅射靶材，沉积薄膜形成电路；作为基板或引线框架，因其热膨胀系数（4.8 × 10⁻⁶/K）接近硅（2.6 × 10⁻⁶/K），减少热应力。2）显示器生产：钼片用于薄膜晶体管（TFT）制造，作电极或导线材料，导电性（1.87 × 10⁷ S/m）支持高效信号传输，表面光滑（粗糙度Ra<0.1 μm）确保沉积质量。3）光伏行业：钼片作为太阳能电池背电极（如CIGS电池），导热性（138 W/m·K）管理热量，耐腐蚀性（抗稀酸、碱）延长寿命。4）电子器件：钼片用于X射线管阳极或高功率LED散热基板，硬度（150-200 HV）及高温稳定性（1000°C下100-200 MPa）满足高负荷需求。钼片通常高纯度（≥99.95%），通过冷轧和抛光制备，抗拉强度500-700 MPa。高温（600°C以上）氧化需真空保护。优点是性能稳定、热匹配好；缺点是成本高、氧化敏感。质量控制采用光谱分析和表面测试，确保电子行业精度要求。
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