钼片在真空炉中因高熔点（2623°C）、抗蠕变性和化学稳定性而广泛应用，主要包括反射屏、发热带、连接件及屏蔽材料。1）反射屏：钼片反射热量，降低能耗，需高纯度（≥99.95%），厚度0.2-1 mm，抛光表面（粗糙度Ra<0.1 μm）。2）发热带：钼片作为加热元件，导电性（1.87 × 10⁷ S/m）和高温强度（1000°C下100-200 MPa）支持高效加热。3）连接件：钼片制螺栓、垫片，硬度150-200 HV，耐机械应力。4）屏蔽材料：钼片隔离热辐射，抗拉强度500-700 MPa，延展性（10-20%）支持成型。真空炉操作温度常达1500-2000°C，钼片在真空或惰性气体中稳定，600°C以上氧化需保护，避免MoO₃生成。冷轧钼片提供高强度（800-1000 MPa），热轧钼片韧性更好。应用确保炉内高温均匀性和长寿命。优点是耐高温、性能稳定；缺点是成本高、氧化敏感。质量控制包括光谱分析、力学测试和表面检查，满足真空炉高标准。
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