钼片作为等离子镀膜溅射靶材具有多重优势，满足高精度薄膜沉积需求。1）高纯度：纯度≥99.95%，杂质<50 ppm，确保薄膜低缺陷率，适合半导体和显示器。2）优异导电性：电导率1.87 × 10⁷ S/m，支持高效等离子放电，提升溅射速率。3）良好导热性：138 W/m·K有效散热，防止靶材过热，延长使用寿命。4）低热膨胀系数：4.8 × 10⁻⁶/K与硅、玻璃基板匹配，减少薄膜应力裂纹。5）高强度和硬度：抗拉强度800-1000 MPa，硬度160-200 HV，耐离子轰击，减少靶材磨损。6）表面质量：冷轧抛光（粗糙度Ra<0.1 μm），确保溅射均匀性，薄膜质量高。7）化学稳定性：室温下耐稀酸、碱，适合真空镀膜环境，但600°C以上需保护避免氧化。钼片支持复杂薄膜（如MoS₂），用于TFT、CIGS电池等。缺点是成本高、氧化敏感。质量控制包括光谱分析、表面形貌和溅射测试，确保靶材性能稳定。
微信公众号“中钨在线”每日更新钨粉、钨酸铵等各类钨酸盐、钨制品、高比重钨合金、硬质合金、钨精矿等各类钨制品价格，同时提供业内最专业的微信群供大家交流供求信息，可以随时交流钼片有关信息。关注“中钨在线”，加入中钨在线微信交流群体，每日钨钼制品价格、供求信息及时送达，实时交流。更多钨钼制品市场行情，产品与资料，敬请关注“中钨在线”微信公众号，或访问 news.molybdenum.com.cn 获取每日更新资讯。
联系信息: sales@chinatungsten.com
电话: +86 592 5129696 / 86 592 5129595
扫码关注“中钨在线”微信公众号，每早免费获取实时更新的钨钼稀土制品市场价格和资讯。
