扫描电子显微镜（SEM）观察下，钡钨阴极表面可能显示出不规则的微孔、颗粒或岛状结构，尤其是在多孔钨基体上。钡化合物可能以团簇或均匀薄膜形式分布。
经过高温激活后，表面可能出现钡原子的扩散或迁移，形成活性更高的发射位点，表现为局部的平滑区域或微小突起。
工艺对表面形态的影响：
- 制备工艺：如浸渍法（Impregnation）会使钡化合物填充在钨基体孔隙内，表面较为均匀；喷涂法则可能导致表面颗粒堆积，粗糙度较高。
- 热处理/激活：阴极在高温下（约 800-1100°C）激活时，表面可能发生重构，钡原子迁移至表面，形成更光滑或局部富钡的区域。
- 使用环境：长期工作可能导致表面钡耗损或污染，表面形态可能变得更粗糙或出现剥落。
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