钨片表面氧化层可以通过 机械方法和化学方法相结合 的方式去除。
机械方法主要是 打磨或抛光。使用砂纸、硬质磨料或抛光轮对表面氧化层进行研磨，可以去掉表面氧化膜，同时改善光洁度。但机械方法可能无法去除非常薄而均匀的氧化膜，且容易引入划痕，需要后续精磨处理。
化学方法通常采用 酸性溶液浸泡或化学蚀刻。常用酸包括稀硝酸、氢氟酸或混合酸溶液，能够与氧化钨反应生成可溶性钨化合物，从而去除表面氧化层。在操作时需要严格控制酸浓度、温度和浸泡时间，并采取安全防护措施。
在工业中，也可以结合 超声清洗 或 电化学抛光，通过振动和电化学反应去除残留氧化层，使表面更加光滑、洁净。
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