钨片生产中在某些工艺环节确实需要 真空或保护气氛环境，主要是为了 防止氧化、提高纯度和改善性能。
首先，烧结环节。钨粉压制后的坯体在高温烧结时，如果在空气中进行，钨表面容易氧化，生成脆性的氧化物层，影响致密度和力学性能。因此，烧结通常在 高真空或高纯氢气气氛下进行，以保证钨片致密、纯净、力学性能稳定。
其次，热轧或退火。高温加工时，钨片暴露在氧气中容易形成氧化膜，降低延展性和表面质量。采用 真空或惰性气体保护 可以防止氧化，同时降低杂质渗入，提高材料性能。
另外，对于 表面处理和高纯钨片应用，如电子器件、真空设备用钨片，真空环境也用于防止污染和氧化，保证表面光洁度和高纯度要求。
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