钨片的表面粗糙度取决于加工工艺和最终应用要求，一般可以通过 机械抛光、化学抛光或电化学抛光 来控制。
普通机械打磨后的钨片，表面粗糙度（Ra值）一般在 1.6–3.2微米 左右；经过精细抛光和化学处理后，可以达到 1.6微米甚至更低。
对于高精密电子器件、光学或真空应用的钨片，需要镜面级表面，Ra值可控制在0.8微米以下，保证高反射率、良好的导电性或防止气体吸附。
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