钨片的真空性能通常指其在高真空或超高真空环境下的 低蒸发率、低气体释放量和低污染性，评估方法主要有以下几种：
热脱气测试：将钨片置于真空腔中加热，通过测量释放气体（尤其是H₂、O₂、N₂、CO、CO₂等）量来评估真空性能。释放气体少、速率低的钨片具有较好的真空适应性。
残余气体分析（RGA）：在真空系统中使用质谱仪分析钨片表面或体内释放的气体成分和浓度，能够定量判断其对真空环境的污染程度。
真空烘烤实验：在高温真空条件下对钨片进行长时间烘烤，观察真空度变化和系统基压恢复情况，以评估其耐真空能力和热稳定性。
表面分析：通过X射线光电子能谱（XPS）或扫描电子显微镜（SEM）分析钨片表面吸附的水分、氧化物或其他残留杂质，间接评估真空性能。
注意事项：高纯钨片真空性能通常较好，但表面污染、氧化层或微裂纹会显著增加气体释放量，因此测试前需清洁表面，并在干燥、洁净环境中操作。
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