六氟化钨（WF₆，Tungsten hexafluoride）有什么用途？
六氟化钨（化学式 WF₆，英文名 Tungsten hexafluoride）是一种无机高价氟化物，具有强腐蚀性、高挥发性和优异的化学反应活性。它是钨的重要气态化合物之一，在现代工业特别是半导体、电子、冶金和化学合成领域中有着关键应用。
一、半导体与微电子工业（最主要用途）
六氟化钨在半导体与微电子工业的应用是最主要用途，占六氟化钨全球消费量80%以上的核心应用领域。
化学气相沉积（CVD）钨膜
WF₆ 是沉积金属钨薄膜的标准前驱体气体。
在晶圆制造中，通过下列反应生成高纯钨层：
WF₆ + 3H₂ → W + 6HF
生成的钨膜具有**高电导率、低电阻率（约5 µΩ·cm）**和优异的填充性。
广泛用于：
集成电路（IC）金属互连层
存储芯片（DRAM、NAND）接触孔填充
逻辑芯片通孔（Via）金属化
MEMS器件的导电层或反射层沉积
原子层沉积（ALD）技术
在先进制程（5 nm以下）中，WF₆ 被用于 ALD 工艺，以获得更致密、均匀、可控厚度的钨薄膜。
相比传统CVD，ALD能在复杂结构中实现更精确的钨沉积。
气相刻蚀与等离子工艺
在部分工艺中，WF₆ 作为反应性气体参与选择性蚀刻或表面改性。
二、金属冶炼与表面工程
钨金属制备
WF₆ 可作为气态原料，在高温下被氢气或硅烷还原生成纯金属钨。
优点：制得的钨纯度高，晶粒细，可用于高性能钨丝、钨靶材制备。
钨镀层与防护涂层
在高温或低压条件下分解 WF₆，可在金属表面沉积一层致密钨膜。
钨涂层具有优异的耐磨、耐腐蚀、耐高温性能，用于：
航空航天发动机零部件
高温模具、喷嘴
核聚变装置反应壁保护层
三、化学合成与材料制备
氟化剂和原料气
WF₆ 是强氟化剂，可用于制备其他钨氟化物（如 WOF₄、WCl₆F₂ 等）或混合氧氟化物。
还可作为含钨催化剂、特殊有机氟化反应的原料气体。
高纯钨化学源
在材料科学研究中，用作高纯钨源制备钨氧化物、钨酸盐、碳化钨等功能材料。
四、科研与其他应用
核工业
WF₆ 可作为研究钨同位素化学行为的试剂。
光学与反射层
沉积钨膜具有优异反射率和热稳定性，可用于光学反射镜、X射线靶层。
传感器制造
用于制造高温电阻型或压力型传感元件中的钨导电层。
六氟化钨（WF₆，Tungsten hexafluoride）用途汇总表
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