生产真空炉内反射屏的钼片需高纯度（≥99.95%）和优异表面质量，以确保高效热反射和高温稳定性。工艺流程如下：1）选材：选用冷轧钼片，厚度0.2-1 mm，抗拉强度800-1000 MPa，硬度160-200 HV，抛光表面（粗糙度Ra<0.1 μm）。2）切割：采用激光或水刀切割，按炉体设计裁剪圆形或弧形屏，精度±0.01 mm。3）成型：通过冲压或折弯形成反射结构，退火（800-1200°C，真空）消除应力，保持延展性（10-20%）。4）表面处理：化学清洗去除氧化物，抛光提升反射率（>90%红外光）。5）组装：用钼螺栓或焊接固定屏，确保与发热体间距均匀。钼片高熔点（2623°C）和导热性（138 W/m·K）支持1500-2000°C下稳定反射，降低能耗。低热膨胀系数（4.8 × 10⁻⁶/K）减少变形。真空环境避免600°C以上氧化。质量控制包括表面平整度测试、光谱分析和高温性能检测，确保反射屏耐用性。优点是高效反射、稳定；缺点是加工成本高。
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